TFT-LCD-tillverkningsteknik och -process
May 14, 2018
Tunna film transistor flytande kristallskärmar (TFT-LCD) behandlas vanligtvis parallellt i två färdiga produkter. Grundprocessen är som följer:
Noggrant anordnade färgfilterskikt bildas av framsidan av glasstrålsubstrat / färgfiltersubstrat.
Tunnfilmsubstratsprocessen bildar tunnfilmstransistor-vätskekristall (TFT) arrays och andra elektroniska komponenter som används i bildskärms-pixelstyrning. Varje pixel motsvarar i allmänhet tre tunnfilmstransistors flytande kristaller (TFT), och varje pixel styr en "färgpunkt" som tillsammans bildar en pixel. Tunnfilmsbildningsförfarandet använder CVD-, Etch- och PVD-processteknik som liknar halvledarframställningsteknik. Sådana processsteg bör upprepas flera gånger och det kontinuerliga filmskiktet kan bilda ett funktionellt element (Figur 2).
De
De två substraten kombineras i ett och det flytande kristallmaterialet injiceras i mitten.
Slutligen monteras bakgrundsbelysning och drivelektronik för att skapa en TFT-LCD-modul.
